氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响 | |
Department | 固体润滑国家重点实验室 ; 先进润滑与防护材料研究发展中心 |
吕艳红; 孔庆花; 吉利![]() ![]() ![]() ![]() ![]() | |
2011 | |
Source Publication | 中国表面工程
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ISSN | 1007-9289 |
Volume | 24Issue:4Pages:7-12 |
Abstract | 采用中频非平衡反应磁控溅射技术制备 CrAlN 薄膜, 研究了氮气分压对 CrAlN 薄膜的沉积速率、 薄膜成分、 微观结构、 机械性能和耐腐蚀性能的影响, 并与 CrN 薄膜的性能进行了比较。研究表明, 相比较 CrN 薄膜而言, CrAlN 薄膜的硬度高,结构致密, 耐腐蚀性好。随着氮气流量的升高, CrAlN 薄膜沉积速率降低, Cr/ Al 比率升高;薄膜中 CrN ( 200) 衍射峰强度逐渐增强, 六方结构的 AlN 相逐渐消失; 薄膜的粗糙度由 39 nm 降低至 10 nm,并且腐蚀电位升高, 耐 腐性增强。当氮气流量为 53 mL/ min 时, CrAlN 薄膜具有最佳的硬度和优良的耐腐蚀性能。 |
Keyword | 磁控溅射 Craln 薄膜 微观结构 硬度 腐蚀 Magnetron Sputtering Craln Film Microstructre Hardness Corrosion |
Subject Area | 材料科学与物理化学 |
Funding Organization | 国家自然科学基金(50705093);创新群体基金(50421502) |
Language | 中文 |
Funding Project | 磨损和表面工程组 |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/936 |
Collection | 固体润滑国家重点实验室(LSL) 中国科学院材料磨损与防护重点实验室/先进润滑与防护材料研究发展中心 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 吕艳红,孔庆花,吉利,等. 氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响[J]. 中国表面工程,2011,24(4):7-12. |
APA | 吕艳红.,孔庆花.,吉利.,李红轩.,刘晓红.,...&周惠娣.(2011).氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响.中国表面工程,24(4),7-12. |
MLA | 吕艳红,et al."氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响".中国表面工程 24.4(2011):7-12. |
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2011-7-12.PDF(1174KB) | 开放获取 | License | View Application Full Text |
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