氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响 | |
Department | 固体润滑国家重点实验室 |
姜金龙1,2; 陈娣1; 王琼1; 杨华1; 魏智强1 | |
2014 | |
Source Publication | 稀有金属材料与工程 |
ISSN | 1002-185X |
Volume | 43Issue:4Pages:977-981 |
Keyword | Ti-si-c Nanocomposite Films Ar++ Sputter-etching Xps Bonding Configurations |
Subject Area | 材料科学与物理化学 |
Funding Organization | 国家自然科学基金资助(5110586) |
Indexed By | SCI&CSCD |
If | 0.194(SCI-JCR);0.5287(CSCD-JCR) |
Language | 中文 |
compositor | 第二作者单位 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/18301 |
Collection | 固体润滑国家重点实验室(LSL) |
Affiliation | 1.兰州理工大学 2.中国科学研究院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 姜金龙,陈娣,王琼,等. 氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响[J]. 稀有金属材料与工程,2014,43(4):977-981. |
APA | 姜金龙,陈娣,王琼,杨华,&魏智强.(2014).氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响.稀有金属材料与工程,43(4),977-981. |
MLA | 姜金龙,et al."氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响".稀有金属材料与工程 43.4(2014):977-981. |
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氩离子溅射刻蚀对Ti_Si_C纳米复合薄(560KB) | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text |
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