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| 具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: ZL201510708221.9, 申请日期: 2018-06-29,
Inventors: 张斌 ; 张俊彦; 高凯雄; 强力; 王健
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| 几种WS2复合薄膜的结构设计及其摩擦学性能研究 学位论文
: 中国科学院大学, 2014
Authors: 徐书生
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射频溅射 Ws2基薄膜 结构化设计 摩擦学性能 氧化失效机理 Radio Frequency Sputter Ws2 Based Films Structure Design Tribological Properties Oxidation Failure Mechanism |
| Ｎ2 流量对中频非平衡磁控溅射ＴｉＡｌＮ薄膜结构及性能的影响 期刊论文
功能材料, 2013, 卷号: 44, 期号: 1, 页码: 32-35
Authors: 吴劲峰; 何乃如; 邱孟柯; 吉利; 李红轩; 黄小鹏
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磁控溅射 Tialn 薄膜 N2 流量 微观结构 硬度 Magnetron Sputtering Tialn Films Nitrogen Flow Microstructure Hardness |
| 物理气相沉积纳米多层摩擦学薄膜制备、结构及性能研究 学位论文
: 中国科学院研究生院, 2012
Authors: 胡明
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磁控溅射 纳米多层薄膜 力学性能 摩擦学性能 耐原子氧性能 Magnetron Sputtering Nanoscale Multilayer Films Mechanical Properties Tribological Properties Ao Resistance Properties |
| 微尺度织构化非晶碳基薄膜的可控制备及其摩擦学行为 学位论文
: 中国科学院研究生院, 2012
Authors: 丁奇
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激光织构化 非晶碳基薄膜 磁控溅射沉积 摩擦学性能 薄膜韧性 Laser Texturing Amorphous Carbon Film Magnetron Sputtering Deposition Tribology Coating Toughness |
