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偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响 期刊论文
摩擦学学报, 2023, 卷号: 43, 期号: 10, 页码: 1118-1127
Authors:  康建;  隋旭东;  杨淑燕;  周海斌;  郝俊英;  万勇;  刘维民
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直流磁控溅射制备TiAlCN薄膜及其性能研究 期刊论文
摩擦学学报, 2013, 卷号: 33, 期号: 1, 页码: 85-90
Authors:  郑建云;  郝俊英;  刘小强;  龚秋雨;  刘维民
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直流磁控溅射  Tialcn薄膜  微观结构  硬度  摩擦行为  Direct Current Magnetron Sputtering  Tialcn Films  Microstructure  Hardness  Tribological Behaviours  
金属离子注入改性非晶碳膜的制备方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: 01143088.5, 申请日期: 2004-09-29, 公开日期: 2002-08-14
Inventors:  阎逢元;  韩修训;  张爱民;  刘维民
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