磁控溅射法制备氮化物硬质膜及其性能研究 | |
郑建云 | |
Subtype | 工程硕士 |
Thesis Advisor | 郝俊英 ; 咸春雷 |
2012-05-26 | |
Degree Grantor | 中国科学院研究生院 |
Department | 固体润滑国家重点实验室 |
Degree Discipline | 材料工程 |
Keyword | 氮化物硬质膜 磁控溅射 多层复合 微观结构 摩擦与磨损 Hard Nitride-based Films Magnetron Sputtering Multilayercomposite Microstructure Friction And Wear |
Abstract | 本论文综述了磁控溅射技术和氮化物硬质膜的研究进展,以此确定了研究思路,用直流磁控溅射技术制备了系列氮化物硬质膜,研究了它们的组成、结构、性能及其相互关系,并通过调控工艺参数和后处理技术,改善了薄膜的结构和性能。主要研究结果和结论如下: 1.甲烷流量、靶-基间距以及退火处理均影响TiCN薄膜的成分、结构与性能。结果表明,随甲烷流量的增加,薄膜从柱状结构转化为柱状晶粘附无定形结构,后者使薄膜具有高硬度、低摩擦系数和良好的耐磨性。当靶-基间距为11.5 cm,薄膜的硬度、摩擦系数和磨损率分别为32.0 GPa、0.124和5.86 ×10-7 mm3/N.m。较退火处理前,薄膜在300 ℃以下进行退火,其硬度和摩擦系数无明显变化,但是耐磨性能减弱。当退火温度大于500 ℃时,TiCN薄膜的综合性能显著退化。 2. 制备出膜厚约为9.7 μm、16.1 μm和23.5 μm的TiN/TiCN多层膜,考察了氮化处理对9.7 μm厚的TiN/TiCN多层膜的成分、 结构与性能的影响。通过氮化处理, TiN/TiCN多层膜的表面成分和内部结构发生了改变,主要体现为内部TiCN层从类玻璃态结构分解为晶体和无定形两种结构,且有一定量的无定形碳扩散到TiN层。结构上的改变,显著降低了TiN层的摩擦系数,使其从0.6降到了0.15。多层结构和扩散作用的相互结合,使TiN/TiCN 多层膜的硬度、耐磨性及膜-基结合力均得到了明显改善。 3. 通过调控甲烷流量和直流电流,制备出了综合性能优异的TiAlCN薄膜。当甲烷流量高于 5 sccm时,薄膜有大量的非晶态物质。室温下,在低CH4 流量下制得的TiAlCN薄膜具有良好的耐磨性能但摩擦系数较高。反之,在高 CH4 流量下制得的薄膜其摩擦系数较低,而耐磨性能较差。在 500 ℃摩擦过程中,甲烷流量为 5 sccm 时制得的薄膜其摩擦系数约为 0.40。随直流电流增大,薄膜中无定形碳含量减少;薄膜的硬度与摩擦行为发生变更。 |
Funding Project | 空间润滑材料组 |
Document Type | 学位论文 |
Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/2801 |
Collection | 固体润滑国家重点实验室(LSL) |
Recommended Citation GB/T 7714 | 郑建云. 磁控溅射法制备氮化物硬质膜及其性能研究[D]. 中国科学院研究生院,2012. |
Files in This Item: | ||||||
File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
201257郑建云.pdf(3203KB) | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text |
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment