| 箍缩磁场辅助磁控溅射镀膜装置 | |
张斌1 ; 张俊彦1; 强力1; 高凯雄1; 王健2
| |
| 2016-04-13 | |
| Rights Holder | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| Date Available | 2016-04-13 |
| Country | 中国 |
| Abstract | 本实用新型公开了一种箍缩磁场辅助磁控溅射镀膜装置，属于表面处理和真空技术领域。该装置包括由偏压电源供电的工件盘以及由电源Ⅱ供电的磁控溅射靶，该磁控溅射靶的前方设有由电源Ⅲ供电的线圈。本实用新型产生的高功率脉冲磁场进一步提高磁控溅射的离化率和电子温度，增大带电离子的数量。 |
| Subject Area | 材料科学与物理化学 |
| Department | 先进润滑与防护材料研究发展中心 |
| The second department | 固体润滑国家重点实验室 |
| Application Date | 2015-10-27 |
| Patent Number | 201520840237.0 |
| Language | 中文 |
| Status | 授权 |
| Application Number | CN205152322U |
| Patent Agent | 方晓佳 |
| Document Type | 专利 |
| Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/21664 |
| Collection | 中国科学院材料磨损与防护重点实验室/先进润滑与防护材料研究发展中心 固体润滑国家重点实验室（LSL） |
| Affiliation | 1.中国科学院兰州化学物理研究所 2.兰州理工大学石油化工学院 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 张斌,张俊彦,强力,等. 箍缩磁场辅助磁控溅射镀膜装置. 201520840237.0[P]. 2016-04-13. |
| Files in This Item: | ||||||
| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| 2015208402370.pdf（362KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text | ||
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment