栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置 | |
张斌1; 张俊彦1; 高凯雄1; 强力1; 王健2 | |
2016-04-13 | |
Rights Holder | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
Date Available | 2016-04-13 |
Country | 中国 |
Abstract | 本实用新型属于物理气相沉积领域,公开了一种栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置。该装置包括由电源Ⅰ供电的柱状阴极靶、由偏压电源供电的工件架,在柱状阴极靶前放置一个由电源Ⅱ供电的栅极。本实用新型将栅极与柱弧相结合,在提高薄膜结合力、光滑度的前提下保持了更高的薄膜沉积速率。 |
Subject Area | 材料科学与物理化学 |
Department | 先进润滑与防护材料研究发展中心 |
The second department | 固体润滑国家重点实验室 |
Application Date | 2015-10-27 |
Patent Number | 201520837539.2 |
Language | 中文 |
Status | 授权 |
Application Number | CN205152318U |
Patent Agent | 方晓佳 |
Document Type | 专利 |
Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/21663 |
Collection | 中国科学院材料磨损与防护重点实验室/先进润滑与防护材料研究发展中心 固体润滑国家重点实验室(LSL) |
Affiliation | 1.中国科学院兰州化学物理研究所 2.兰州理工大学石油化工学院 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 张斌,张俊彦,高凯雄,等. 栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置. 201520837539.2[P]. 2016-04-13. |
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2015208375392.pdf(402KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text |
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